洗淨工程介紹
洗淨設備 ;
在LCD製程中需要許多洗淨設備。如初期入料洗淨、成膜前洗淨、光阻前洗淨、配向洗淨、完工洗淨等至少20次以上的洗淨工程。其目的為將玻璃機板上之雜質以清洗劑洗淨，這些洗淨工程對之後的製程良率影響極大，故地位特別重要。
洗淨的方法有下列幾種方式，可依製程的目的再作組合搭配。
1.物理洗淨方法﹕刷洗(Brush)、高壓水、超音波
2.化學洗淨方法﹕中性洗淨、有機溶劑、蝕刻
3.乾洗淨方法﹕UV洗淨 LCD製程污染種類
: 一般而言LCD製程主要的污染源有﹕
1.有機類
2.油脂(膜)類
3.無機類
4.微粒子
有機類、油脂類的污染來源，如有機溶劑(丙酮、酒精、異丙醇IPA)、光阻劑、有機樹脂(如UV封膠)、液晶、接觸油膜等。無機類污染來源如無機氧化層、金屬雜質。微粒子污染來源包含空氣、灰塵、液晶裁切盒的玻璃屑或顆粒、人員或設備機台等。 
Surface Contamination on Glass
 Other Issue
Water mark / Dev mist / DIW bacteria / CDA / Oil Contamination 
評價方式 :
A.呼吸相﹕此方法也為STN所採用，評價方式在於水滴不可凝聚於基板表面。
B.接觸角﹕此法則是測量水滴和基板之間的接觸角，如果接觸角太大表示基板不清潔。TFT LCD可接受接觸角範圍為20°~30°之間，現今為符合大尺寸新製程要求，接觸角則需小於20°。
C.利用Laser計算粒子﹕運用Laser掃描基板，掃描到灰塵時雷射光將會散射，計算收集散射訊號便能得到粒子的資訊。 | 